RF350离子源

产品介绍

RF350离子源使用围绕等离子体罐的射频感应线圈的射频功率工作。 射频场激发罐中的电子，使它们与气体原子碰撞产生离子，在源的等离子体罐中产生等离子体。

一旦等离子体被点燃，栅网上的电势将离子从源中提取出来，并加速它们向基片移动，从而产生离子束。

产品应用

我司提供的RF350离子源主要应用于离子束刻蚀设备（IBE）与离子束沉积设备（IBD）

产品特点

支持很宽的高功率操作范围

卓越的等离子体均匀性、稳定性

3网格设计提供了非常高的准直性

水冷式——适用于低功率到高功率运行

稳定高效的等离子体操作具有精确控制能力并允许高重复性

非常适合于负载锁定生产工艺