栅网

产品介绍

离子源是采用离子技术辅助镀膜、刻蚀等高端设备的重要部件，其中栅网是离子源中直接影响均匀性和致密性的重要易耗性配件，它决定了带电离子的密度、运动方向、加速度等，直接影响相应工序的产品质量。

 产品特点

 我公司生产离子源（Ion source）栅极组件主要应用于离子刻蚀/沉积设备（IBE/IBD），栅网为三片一套的钼栅极(Mo Grid)，依次分别为Beam Grid、Suppressor Grid、Ground Grid，经过专业特殊的表面加工及精密钻孔加工。为了保证离子束的均匀性，通过精确测量和高精度数值模拟相结合，在栅网精确开孔、角度分布等方面开展技术攻关，保证了离子束的均匀性。另外为了保证产品的稳定性和耐用性，我司精选高档进口原材料，加工中经过超高温等独有应力成型技术处理，经过多道抛光定型喷砂完成，经久耐用。

竞争优势

1.高档进口材料99.9999%以上

2.专业特殊的加工工艺及超高温等独有的应力成型技术处理；

3.行业资深专家团队，品质有保障

4.优质的产品，安心的服务