TALD原子层沉积设备

ALD原子层沉积系统是一款独立可控制的薄膜生长设备，能够实现全自动工艺控制并包含完整的安全联锁功能。ALD应用领域广泛，如高K栅氧化层、存储容性电介质、铜互连中高深宽比扩散阻挡层、OLED无针孔钝化层、MEMS高均匀镀膜、纳米多孔结构镀膜、特种光纤掺杂、太阳能电池、平板显示器、光学薄膜以及其他各类特殊结构纳米薄膜等。